실리콘 소재를 위한 원스톱 솔루션 제공
Home / Products / Quartz Part /Quartz Products
고순도 이산화규소(SiO₂)로 제작된 석영 제품은 뛰어난 특성 덕분에 첨단 산업 분야에서 없어서는 안 될 필수품입니다. 당사의 정밀 가공된 석영 웨이퍼, 석영 보트, 석영 커버 및 기타 부품은 타의 추종을 불허하는 내열성(최대 1,730°C), 화학적 불활성(불화수소산 제외), 그리고 자외선에서 적외선 스펙트럼에 걸친 광학적 투명성을 제공합니다. 반도체 제조에 이상적인 이 제품들은 확산, 이온 주입, 포토리소그래피와 같은 공정을 지원하며, 가혹한 환경에서도 웨이퍼의 무결성을 보장합니다. 태양광 분야에서는 당사의 석영 도가니가 효율적인 실리콘 결정 성장을 가능하게 하며, 광학 분야에서는 자외선 투과 석영 유리가 레이저 및 조명 시스템을 향상시킵니다. 맞춤형 제작과 반도체 등급 순도(99.99% SiO₂)에 중점을 둔 당사의 제품은 전자, 항공우주 및 실험실 장비 분야의 엄격한 요구 사항을 충족합니다. 중요한 응용 분야에서 성능을 한 차원 높여줄 내구성이 뛰어나고 내식성이 우수한 당사의 다양한 석영 솔루션을 확인해 보십시오.
기술 사양
| 아니요. | 특징 | 사양 |
|---|---|---|
| 1 | Density | 2.20g/cm3 |
| 2 | Mohs hardness | 5.5~6.5 |
| 3 | Tensile strength | 4.8x10^7 Pa (N/mm2) (7000 psi) |
| 4 | Compressive strength | ＞1.1x10^9 Pa (160,000 psi) |
| 5 | Bulk modulus | 3.7x10^10 Pa (5.3x10^6 psi) |
| 6 | Poisson's ratio | 0.17 |
| 7 | Thermal expansion | 5.5x10^-7cm/cm.°C (20°C-320°C) |
| 8 | Thermal conductivity | 1.4 W/m.°C |
| 9 | Softening point | 1683°C |
| 10 | Annealing point | 1215°C |
| 11 | Strain point | 1120°C |
기술적 장점
Ultra-High Purity & Chemical Stability ：Crafted from semiconductor-grade raw materials with 99.99%+ SiO₂ purity, our quartz products exhibit exceptional resistance to chemical corrosion (except hydrofluoric acid), ensuring zero contamination in critical processes like semiconductor wafer cleaning or photovoltaic silicon crystal growth. Ideal for environments requiring strict purity, such as high-temperature diffusion furnaces or wet etching tanks.
Superior Thermal Performance： With a melting point of 1,730°C and low thermal expansion coefficient (0.55×10⁻⁶/°C), our quartz components maintain structural integrity in extreme temperature fluctuations, reducing thermal stress and cracking risks. Perfect for applications like rapid thermal processing (RTP) in semiconductors or high-temperature furnaces in LED manufacturing.
Precision Machining & Dimensional Accuracy： Engineered with micron-level precision (±5-10μm tolerance for quartz wafers, ±0.1mm for complex structures like quartz boats), our products meet the tightest dimensional requirements of advanced lithography and deposition equipment. Customizable shapes (flat, curved, multi-layered) and surface finishes (polished, matte, etched) ensure seamless integration into specialized systems.
- Broad Optical Transparency： Featuring 90%+ UV transmission (185-2,500nm) and high infrared transparency, our quartz glass and wafers excel in optical applications, such as UV curing systems, laser beam delivery, and spectroscopy equipment. The low hydroxyl (OH⁻) content minimizes absorption in the deep UV range, enhancing performance in lithography and analytical instruments.